一种ITO膜磁控溅射磁悬浮车靶均匀加热装置及其方法
基本信息
| 申请号 | CN201410736207.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104372302B | 公开（公告）日 | 2017-08-22 |
| 申请公布号 | CN104372302B | 申请公布日 | 2017-08-22 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 谭华;秦遵红;王恋贵;董安光 | 申请（专利权）人 | 洛阳康耀电子有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 471000 河南省洛阳市孟津县华阳产业集聚区创业中心三楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种ITO膜磁控溅射磁悬浮车靶均匀加热装置及其方法，确保在大型连续性生产氧化铟锡膜中，通过控制对磁控溅射磁悬浮车靶的各部位的加热温度，使ITO薄膜得到整版均匀性良好的电阻，电阻率达到2×10‑4Ω/cm、透过率达到90％以上；明显提高ITO薄膜的产品质量，大大提高工作效率，节约生产成本，延长使用寿命2倍以上，确实节能环保。一种ITO膜磁控溅射磁悬浮车靶均匀加热装置，是由：连续性真空磁控溅射镀膜设备室，真空室温控门，真空门加热器，真空门均温加热器，磁控溅射磁悬浮车靶装置，真空墙体上加热器，真空墙体中间加热器，真空墙体下加热器，真空室温控后墙体，钐钴磁铁装置构成。 |
