一种优化的化学气相沉积工艺
基本信息
| 申请号 | CN201911375201.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111020536B | 公开（公告）日 | 2022-05-24 |
| 申请公布号 | CN111020536B | 申请公布日 | 2022-05-24 |
| 分类号 | C23C16/52（2006.01）I;G05D27/02（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 彭雨晴;信吉平 | 申请（专利权）人 | 清华大学无锡应用技术研究院 |
| 代理机构 | 无锡盛阳专利商标事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 214000江苏省无锡市滨湖区建筑西路777号A3幢13楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种优化的化学气相沉积工艺，包括以下步骤：（1）将沉积炉的炉内空间划分成多个控制空间；（2）采集各控制空间内的实际温度值和实际流量值；（3）计算出实际与理论的差值；（4）根据差值进行温度补偿和流量补偿。本发明利用数字孪生技术，对沉积炉的内腔分空间建造数字孪生模型，达到生产时，分空间实时监控沉积炉内温度和影响沉积的物质的流量，实现整个温度场及流体场控制过程的可视化，通过对采集的实际温度和影响沉积的物质的实际流量与理论数据融合，得到误差补偿结果，以此分空间进行温度和流量补偿，从而实现了保证沉积炉内温度场和流体场分布均匀。 |
