一种蒸镀用加热装置

基本信息

申请号 CN201921257970.4 申请日 -
公开(公告)号 CN211720759U 公开(公告)日 2020-10-20
申请公布号 CN211720759U 申请公布日 2020-10-20
分类号 H05B3/20(2006.01)I 分类 其他类目不包含的电技术;
发明人 何军舫 申请(专利权)人 北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司
代理机构 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 代理人 北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司;博宇(朝阳)半导体科技有限公司;博宇(天津)半导体材料有限公司
地址 101101北京市通州区工业开发区
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型提供一种蒸镀用加热装置,包括基板,以及设置于基板表面的导电层,其特征在于,基板具有相对的第一表面和第二表面;导电层包括第一导电层和第二导电层;第一导电层设置于基板的第一表面;第二导电层设置于基板的第二表面;第一导电层和第二导电层上设置有加热区和隔离区;第一导电层上的加热区与第二导电层上的隔离区相对应。采用这种蒸镀用加热装置,能够保证加热面温度的均匀性。