一种面式蒸发源及蒸镀设备
基本信息
| 申请号 | CN202111295199.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114000111A | 公开（公告）日 | 2022-02-01 |
| 申请公布号 | CN114000111A | 申请公布日 | 2022-02-01 |
| 分类号 | C23C14/26（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 陈景升 | 申请（专利权）人 | 江苏微迈思半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 南京普睿益思知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 杜朝霞 |
| 地址 | 221000江苏省徐州市经济开发区杨山路21-6科技创业大厦 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种面式蒸发源及蒸镀设备，包括外壳体，所述外壳体内放置有蒸镀坩埚，所述蒸镀坩埚内从一端至另一端均匀开设有若干个蒸镀腔，所述蒸镀腔上端一体成型有窄口，所述窄口上端一体成型有开放喷口，两两所述开放喷口的喷射面相衔接，所述蒸镀坩埚内且围绕每个所述蒸镀腔缠绕有电磁线圈，所述蒸镀坩埚上方处安装有基板调节组件。本发明的优点：其可对基板进行一次性喷射且喷射均匀度较好，整体工作效率较高。 |
