一种具有均匀分散喷头的坩埚盖
基本信息
| 申请号 | CN202121165323.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214830626U | 公开（公告）日 | 2021-11-23 |
| 申请公布号 | CN214830626U | 申请公布日 | 2021-11-23 |
| 分类号 | C23C14/24（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I;H01L51/56（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 陈景升;张正才;岳彩玉 | 申请（专利权）人 | 江苏微迈思半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 苏州国卓知识产权代理有限公司 | 代理人 | 周鑫 |
| 地址 | 221000江苏省常州市经济技术开发区徐庄镇府中路66号徐庄之星众创空间303房间 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种具有均匀分散喷头的坩埚盖，涉及坩埚技术领域，具体为一种具有均匀分散喷头的坩埚盖，包括坩埚盖本体、坩埚本体，所述坩埚盖本体的表面开设有喷头孔。该具有均匀分散喷头的坩埚盖，通过喷头孔、第一盖板、第二盖板、第三盖板和堵头的配合使用，当需要进行喷镀时，根据蒸镀材料的大小，从而选择性取走第三盖板、第二盖板或第一盖板，带动堵头从喷头孔的内腔抽出，从而漏出合适的喷头大小，避免了传统的具有均匀分散喷头的坩埚盖不能根据实际需要调整喷头的使用区域，导致喷镀蒸气喷镀到喷镀材料其它区域的问题，提高了该具有均匀分散喷头的坩埚盖的实用性。 |
