一种石墨盘
基本信息
| 申请号 | CN201711063370.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN107587118B | 公开（公告）日 | 2020-03-03 |
| 申请公布号 | CN107587118B | 申请公布日 | 2020-03-03 |
| 分类号 | C23C16/458 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 罗睿宏;翟勇鹏;张晓荣;黄香魁 | 申请（专利权）人 | 江苏华功半导体有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 江苏华功半导体有限公司;华润微电子控股有限公司 |
| 地址 | 215211 江苏省苏州市吴江区黎里镇汾湖大道558号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明实施例公开了一种石墨盘，该石墨盘包括：第一石墨盘和至少一个第二石墨盘；第一石墨盘上设有用于放置第二石墨盘的至少一个凹槽，凹槽底部设置有螺旋型通气轨道槽，凹槽底部中心还设置有用于固定第二石墨盘的支撑柱；第二石墨盘的底部中心设置有与支撑柱匹配的固定槽，第二石墨盘通过固定槽固定在第一石墨盘的凹槽的支撑柱上；第二石墨盘包括片槽和片槽挡墙，片槽挡墙上设置有多个凹槽结构，任意相邻两个凹槽结构之间存在间隔。本发明实施例提供的石墨盘，提高了第二石墨盘的片槽边缘与片槽中心的温度场的均匀性，使气流可以更好的流过放置在第二石墨盘中的衬底的表面，衬底上的外延层边缘生长效果好，厚度均匀，外延层的质量更好。 |
