一种用于ITO/Ag/ITO薄膜一步刻蚀的蚀刻液
基本信息
| 申请号 | CN202010196688.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111286334A | 公开（公告）日 | 2020-06-16 |
| 申请公布号 | CN111286334A | 申请公布日 | 2020-06-16 |
| 分类号 | C09K13/06(2006.01)I;C23F1/30(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 庄英毅;王雪刚 | 申请（专利权）人 | 厦门思美科新材料有限公司 |
| 代理机构 | 北京科亿知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 厦门思美科新材料有限公司 |
| 地址 | 361000福建省厦门市中国(福建)自由贸易试验区厦门片区港中1730号01单元501 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种用于ITO/Ag/ITO薄膜一步刻蚀的蚀刻液，所述的蚀刻液由总重量8wt％～27wt％的醋酸、5wt％～25wt％的硝酸、37wt％～70wt％的磷酸、0.1～3wt％的草酸、0.1～1wt％的表面活性剂和0.2～3wt％的盐组成，余量为去离子水；本申请对应的配比方案使得蚀刻液能够在温和的条件下对ITO/Ag/ITO多层薄膜进行蚀刻，且蚀刻后不会有残渣、线条平整、精度高；而且能够渗透、浸润到需要蚀刻的部位，从而提高蚀刻效率，以获得更高的蚀刻均匀性，以及更准确的蚀刻角度，刻蚀稳定性强；同时蚀刻液使用寿命延长到60小时，而且刻蚀时间也缩短至50s，能够满足高端平板显示器件生产工艺需求。 |
