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一种便于调节溶液流速的装置

基本信息

申请号 CN202120864193.0 申请日 -
公开（公告）号 CN214782252U 公开（公告）日 2021-11-19
申请公布号 CN214782252U 申请公布日 2021-11-19
分类号 C25D21/12（2006.01）I;C25D17/00（2006.01）I 分类 电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕;
发明人 严志敏 申请（专利权）人 山王电子（无锡）有限公司
代理机构 无锡万里知识产权代理事务所（特殊普通合伙） 代理人 岳培华
地址 214000江苏省无锡市国家高新技术产业开发区几点工业园D区
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及电镀设备技术领域，具体涉及一种便于调节溶液流速的装置，它包括装置底板，所述装置底板顶部的两侧固定连接有储液囊，所述储液囊两端的内部设有进液调节装置，所述进液调节装置包括调节螺杆、调节旋头、调节挡板，所述调节旋头固定连接于调节螺杆的顶部，所述调节挡板安装于调节螺杆的外部，且与调节螺杆螺纹连接，所述调节挡板滑动安装于储液囊的内壁，所述储液囊顶部的一侧固定连接有向上凸起的给液口，所述给液口与底部的储液囊互相连通，所述储液囊的内侧固定连接有电极板，所述储液囊的前端设有溶液出口。