一种溅射装置
基本信息
申请号 | CN201820111755.2 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN208038538U | 公开(公告)日 | 2018-11-02 |
申请公布号 | CN208038538U | 申请公布日 | 2018-11-02 |
分类号 | C23C14/34 | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 白雨成;全义九;李相文;张昌泳;丁钟国;边娜恩 | 申请(专利权)人 | 胜显(上海)商贸有限公司 |
代理机构 | 上海汉声知识产权代理有限公司 | 代理人 | 胜显(上海)商贸有限公司;株式会社SELCOS |
地址 | 韩国京畿道华城市东滩面东滩工业园10路42 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型涉及一种溅射装置,包括第一旋转靶材、第二旋转靶材、被溅镀物、主遮挡板单元、溅镀罩单元、控制部以及靶材;第一旋转靶材和第二旋转靶材并列设置、呈正棱柱状且能够中心旋转;被溅镀物设置在第一旋转靶材和第二旋转靶材的下方;主遮挡板单元设置在第一旋转靶材、第二旋转靶材及被溅镀物之间;溅镀罩单元设置在主遮挡板单元及被溅镀物之间;控制部用于控制第一旋转靶材、第二旋转靶材、主遮挡板单元以及溅镀罩单元;第一旋转靶材、第二旋转靶材侧面分别设置释放不同溅镀物质的靶材。本方案能够满足利用两种靶材,在一个基板上用一次工艺溅镀多种混合比例的薄膜,或能够在一个基板上溅镀具有特定混合比例的两种溅镀物质的薄膜。 |
