全抛釉瓷片及其制备方法
基本信息
申请号 | CN201210242192.8 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN102731169A | 公开(公告)日 | 2012-10-17 |
申请公布号 | CN102731169A | 申请公布日 | 2012-10-17 |
分类号 | C04B41/86(2006.01)I | 分类 | 水泥;混凝土;人造石;陶瓷;耐火材料〔4〕; |
发明人 | 詹长春;柯美云;赵达峰;陈宗玲 | 申请(专利权)人 | 佛山市科捷制釉有限公司 |
代理机构 | 广州三辰专利事务所 | 代理人 | 佛山市科捷制釉有限公司 |
地址 | 528042 广东省佛山市港口路高新区4号综合楼三楼 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种全抛釉瓷片及其制备方法。全抛釉瓷片包括坯体层、底釉层、面釉层、花釉层,在花釉层上表面设有全抛釉层,所述全抛釉层按重量百分比包括全抛釉熔块64%~71%,生料0~7%,水25~32%,助料0.1~0.5%,其中全抛釉熔块所用原料为:钾长石、方解石、烧滑石、氧化锌、硼酸、碳酸钡、氧化铝、石英,生料为气刀土或高岭土。本发明用于瓷片装饰,得到的瓷片的釉面效果好,釉层透明度高,抛后光亮,平整度高,更能体现釉下图案分明的纹理层次、质感丰富,且砖形变形小、抗热震性好,镜面效果高,通透质感强。 |
