一种两面对准的倒置曝光设备
基本信息
| 申请号 | CN201710032580.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN106814552A | 公开（公告）日 | 2017-06-09 |
| 申请公布号 | CN106814552A | 申请公布日 | 2017-06-09 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 傅志伟 | 申请（专利权）人 | 江苏影速科技有限公司 |
| 代理机构 | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 | 代理人 | 上海誉刻智能装备有限公司;江苏影速光电技术有限公司 |
| 地址 | 201612 上海市松江区中心路1158号9幢401室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种两面对准的倒置曝光设备，属于直写曝光机技术领域。本发明的两面对准的倒置曝光设备，包括支撑结构、曝光装置、对准装置、载样装置和控制装置；所述支撑结构下部为一箱体结构，曝光装置和控制装置位于所述箱体结构内，所述载样装置嵌于箱体结构上表面并位于曝光装置上方；所述支撑结构上部为墙面结构或龙门结构，所述对准装置与支撑结构上部连接且位于载样装置的上方。本发明的装置能够实现对半导体、PCB板等产品双面曝光图像精确对位，不会对板造成永久性的破坏；设备简单，不需要额外添加用于打印或曝光标记图形的设备，节约成本。 |
