一种阻焊曝光方法
基本信息
| 申请号 | CN201710181528.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN106707700A | 公开（公告）日 | 2017-05-24 |
| 申请公布号 | CN106707700A | 申请公布日 | 2017-05-24 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 傅志伟 | 申请（专利权）人 | 江苏影速科技有限公司 |
| 代理机构 | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 | 代理人 | 上海誉刻智能装备有限公司;江苏影速光电技术有限公司;江苏影速集成电路装备股份有限公司 |
| 地址 | 201612 上海市松江区中心路1158号9幢401室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种阻焊曝光方法，属于曝光机技术领域，所述阻焊曝光方法，包括步骤：(1)对样品的阻焊区域进行直写曝光，(2)对样品整个区域进行混合波长的平行光曝光，(3)将样品进行显影处理，将非阻焊区域的阻焊层显影去除；该方法避免了DMD接受多波长混合光，大大延长DMD的使用寿命，降低生产成本，对设备要求较低，利用二次平行光进行能量补偿，减少DMD个数，减少成本和设备复杂性，使阻焊层在外观上有明显的光泽度，使产品具有更好的抗氧化性和抗冲击能力，在回流焊过程中性质更加稳定。 |
