一种双面对准的曝光系统
基本信息
| 申请号 | CN201710032482.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN106647188B | 公开（公告）日 | 2017-05-10 |
| 申请公布号 | CN106647188B | 申请公布日 | 2017-05-10 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 傅志伟 | 申请（专利权）人 | 江苏影速科技有限公司 |
| 代理机构 | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 | 代理人 | 江苏影速集成电路装备股份有限公司 |
| 地址 | 221000江苏省徐州市邳州市恒山路西侧 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种双面对准的曝光系统，属于直写曝光机技术领域。本发明的双面对准的曝光系统包括样品承载装置和分别位于样品承载装置两侧的对位装置和曝光装置，本发明提供的双面对位曝光方法包括放板、标记、翻板、定位和曝光等步骤；实现了对半导体、PCB板等产品双面曝光图像精确对位，在定位过程中，使用已有图形中形状作为标记图形或使用添加标记图形作为定位用的标记，不会对板造成永久性的破坏；设备和方法简单，不需要额外添加用于打印或曝光标记图形的设备，节约成本。 |
