一种双面对位曝光装置及含有该装置的激光直写设备
基本信息
| 申请号 | CN201720053360.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN206479769U | 公开（公告）日 | 2017-09-08 |
| 申请公布号 | CN206479769U | 申请公布日 | 2017-09-08 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 傅志伟 | 申请（专利权）人 | 江苏影速科技有限公司 |
| 代理机构 | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 | 代理人 | 上海誉刻智能装备有限公司;江苏影速光电技术有限公司 |
| 地址 | 201612 上海市松江区中心路1158号9幢401室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种双面对位曝光装置及含有该装置的激光直写设备，属于直写曝光机技术领域。本实用新型的双面对位曝光装置包括样品承载装置和分别位于样品承载装置两侧的对位装置和曝光装置，能够实现对半导体、PCB板等产品双面曝光图像精确对位，特别是实现了对于无定位孔存在的PCB板的内层板的双面曝光的图像精确对位；本实用新型的设备简单，不需要额外添加用于打印或曝光标记图形的设备，节约成本。 |
