一种高效率制备高性能涂覆层的方法及装置
基本信息
申请号 | CN202011163648.2 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN112323061A | 公开(公告)日 | 2021-02-05 |
申请公布号 | CN112323061A | 申请公布日 | 2021-02-05 |
分类号 | C23C24/10(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 曾晓雁;孟丽;王邓志;胡乾午;郭平华;许晓明;魏世星 | 申请(专利权)人 | 武汉飞能达激光技术有限公司 |
代理机构 | 武汉华之喻知识产权代理有限公司 | 代理人 | 张彩锦;梁鹏 |
地址 | 436070湖北省鄂州市葛店开发区光谷联合科技城D5-1 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明属于表面涂层加工领域,并具体公开了一种高效率制备高性能涂覆层的方法及装置,其首先在待处理工件的表面激光刻蚀出微结构阵列,然后利用超高速激光熔覆技术或超高速激光‑感应复合熔覆技术在刻蚀有微结构阵列的工件表面沉积熔覆层,以此实现高性能涂覆层的高效率制备。本发明在金属构件表面制备高性能熔覆层的同时,可以提高覆层与基底界面结合面积和结合强度,减小覆层与基底界面应力,避免熔覆层在服役过程中发生断裂和剥落现象,进而提高覆层疲劳性能和摩擦磨损性能。 |
