一种高效率制备高性能涂覆层的方法及装置

基本信息

申请号 CN202011163648.2 申请日 -
公开(公告)号 CN112323061A 公开(公告)日 2021-02-05
申请公布号 CN112323061A 申请公布日 2021-02-05
分类号 C23C24/10(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 曾晓雁;孟丽;王邓志;胡乾午;郭平华;许晓明;魏世星 申请(专利权)人 武汉飞能达激光技术有限公司
代理机构 武汉华之喻知识产权代理有限公司 代理人 张彩锦;梁鹏
地址 436070湖北省鄂州市葛店开发区光谷联合科技城D5-1
法律状态 -

摘要

摘要 本发明属于表面涂层加工领域,并具体公开了一种高效率制备高性能涂覆层的方法及装置,其首先在待处理工件的表面激光刻蚀出微结构阵列,然后利用超高速激光熔覆技术或超高速激光‑感应复合熔覆技术在刻蚀有微结构阵列的工件表面沉积熔覆层,以此实现高性能涂覆层的高效率制备。本发明在金属构件表面制备高性能熔覆层的同时,可以提高覆层与基底界面结合面积和结合强度,减小覆层与基底界面应力,避免熔覆层在服役过程中发生断裂和剥落现象,进而提高覆层疲劳性能和摩擦磨损性能。