一种轴瓦基底层
基本信息
| 申请号 | CN201110420022.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN102562808B | 公开（公告）日 | 2015-01-07 |
| 申请公布号 | CN102562808B | 申请公布日 | 2015-01-07 |
| 分类号 | F16C33/12(2006.01)I;F16C33/14(2006.01)I;C22C9/02(2006.01)I;C22C1/04(2006.01)I | 分类 | 工程元件或部件；为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施；一般绝热; |
| 发明人 | 刘会学 | 申请（专利权）人 | 广州安达精密工业股份有限公司 |
| 代理机构 | 广州市一新专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 王德祥 |
| 地址 | 510540 广东省广州市白云区太和镇民营科技园内 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种轴瓦基底层，其特征在于所述轴瓦基底层为一铜合金，由锡镍铋锰铜合金构成的粉末烧结体，锡镍铋锰铜合金中各元素的重量百分配比是：锡8~12%，镍0.7~1.3%，铋2~5%，锰0.6~3%，余量为铜。本发明轴瓦基底层具有不含铅，环保无污染，承载能力高，耐腐蚀，耐高温及稳定不变形的优点。 |
