一种聚焦型线性阳极层离子源
基本信息
| 申请号 | CN201911066338.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110767522B | 公开（公告）日 | 2022-03-18 |
| 申请公布号 | CN110767522B | 申请公布日 | 2022-03-18 |
| 分类号 | H01J27/02（2006.01）I;H01J27/14（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 陈伟;高生;何国军 | 申请（专利权）人 | 无锡诚承电子科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京权智天下知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张海涛 |
| 地址 | 214000 江苏省无锡市新吴区锡梅路88号无锡环普万联国际产业园B号厂房一楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于离子源技术领域，具体涉及一种聚焦型线性阳极层离子源，包括一具有长条状安装槽的壳体，所述安装槽的槽腔中心处设有一竖向布置的磁体，所述磁体与安装槽的槽壁之间设有阳极，所述安装槽的槽口中心处设有内阴极，所述内阴极的两侧对称布置有外阴极，所述外阴极与内阴极的磁极靴之间形成阴极缝隙，且该内阴极的最低面低于外阴极的最低面2‑5mm；通过将内阴极的最低面设置成低于外阴极的最低面，内外阴极高度差所形成的磁场法线，控制喷射角度，形成聚焦效应可以显著的提高单位面积上的等离子体的数量，使得相同的功率下，该线性阳极层离子源能达到更较好的表面处理效果，或表面刻蚀，或薄膜表面辅助沉积的效果。 |
