一种耐高温抗中子辐照型聚酰亚胺复合薄膜及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201610543787.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN106189227B | 公开（公告）日 | 2019-02-26 |
| 申请公布号 | CN106189227B | 申请公布日 | 2019-02-26 |
| 分类号 | C08L79/08;C08K9/10;C08K3/38;C08K3/02;C08G73/10;C08J5/18 | 分类 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物; |
| 发明人 | 李晓敏;梅军;黄渝鸿;唐昶宇;袁萍;陈四龙;姚曾 | 申请（专利权）人 | 成都正威新材料研发有限公司 |
| 代理机构 | 四川力久律师事务所 | 代理人 | 王芸;韩洋 |
| 地址 | 610200 四川省成都市双流县银河路596号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种含硼聚酰亚胺，它含有0.001~50wt%的硼元素；所述的硼元素以：单质硼、碳化硼、氮化硼中的一种或几种的形式存在于聚酰亚胺薄膜中；所述的硼元素是含硼粉体，粉末均匀分散到聚酰亚胺当中；所述的含硼粉体为微米级粉体、纳米级粉体或微米纳米级配型粉体。本发明还提供一种耐高温抗中子辐照型含硼聚酰亚胺复合薄膜的制备方法。本发明通过对含硼功能粉体的表面改性、聚酰胺酸分子量控制、复合工艺控制及热亚胺化工艺条件优化等过程，制备出一系列耐高温抗中子辐照的含硼聚酰亚胺复合薄膜。所制备的含硼聚酰亚胺复合薄膜具有较高的表面平整均一性，且耐折性优良，表现出优异的综合性能。 |
