制备金属和陶瓷复合膜的真空离子镀膜机
基本信息
| 申请号 | CN98249501.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN2356042Y | 公开（公告）日 | 1999-12-29 |
| 申请公布号 | CN2356042Y | 申请公布日 | 1999-12-29 |
| 分类号 | C23C14/35 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 胡显奇 | 申请（专利权）人 | 深圳市黄金屋真空科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 518053广东省深圳市华侨城东E工业区5栋5楼东座胡显奇转 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种用于金属表面处理可制备金属和陶瓷复合膜的真空离子镀膜机。它是在常规的真空离子镀膜机上再配置射频(R.F)磁控溅射靶，将其与多个电弧蒸发靶、多个多种直流(D.C)磁控溅射靶有机地组合在一个真空室内，制备出既有金属相又有陶瓷相特性的多层多种复合膜，尤其是能镀制出透明陶瓷保护膜，使金属表面改性达到高耐磨损、强耐腐蚀的目的。 |
