一种用于光刻机上的真空检测装置

基本信息

申请号 CN202110451054.X 申请日 -
公开(公告)号 CN113176715A 公开(公告)日 2021-07-27
申请公布号 CN113176715A 申请公布日 2021-07-27
分类号 G03F7/20(2006.01)I 分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
发明人 张俊杰 申请(专利权)人 上海图双精密装备有限公司
代理机构 上海海贝律师事务所 代理人 宋振宇
地址 201712上海市青浦区久远路157号1幢1层东侧
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种用于光刻机上的真空检测装置,包括底座,底座上侧安装有上罩体,上罩体内顶部设有滑槽,且滑槽内安装有Y轴丝杆和Y轴滑块,且两个Y轴滑块之间安装有横向支撑板,横向支撑板下侧通过支臂安装有X轴丝杆和X轴滑块,X轴滑块下侧安装有Z轴电动推杆,Z轴电动推杆下侧通过安装座安装有真空检测装置,上罩体内部一侧通过第一连接杆安装有第一定位夹座,上罩体内部另一侧通过第二连接杆安装有第二定位夹座,第二连接杆通过齿轮组传动连接有第一电机,本发明通过设有的Y轴丝杠、X轴丝杠和Z轴电动推杆,使得便于对真空检测装置沿Y轴、X轴和Z轴移动调节处理,从而满足不同位置的检测处理,有利于提高检测的效率。