一种镀膜设备的控制方法及系统，镀膜设备及存储介质
基本信息
| 申请号 | CN201811374982.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109338325A | 公开（公告）日 | 2021-06-18 |
| 申请公布号 | CN109338325A | 申请公布日 | 2021-06-18 |
| 分类号 | C23C14/54 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 宋文庆 | 申请（专利权）人 | 苏州沃盾纳米科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 孟金喆 |
| 地址 | 215300 江苏省苏州市昆山市花桥镇金洋路15号1号楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种镀膜设备的控制方法及系统，镀膜设备及存储介质。该方法包括：在镀膜设备工作时，镀膜设备与第一用户设备建立连接关系；镀膜设备接收第一用户设备发送的参数查询请求消息，其中，参数查询请求消息用于请求查询镀膜设备的参数信息；镀膜设备获取镀膜设备的参数信息，并向第一用户设备发送携带镀膜设备的参数信息的参数查询响应消息。该方法能够通过用户设备远程监控并控制镀膜设备的工作，降低人工劳动强度，节约生产成本。 |
