瞬态电压抑制二极管结构及其制作方法

基本信息

申请号 CN201910491591.X 申请日 -
公开(公告)号 CN112054050A 公开(公告)日 2020-12-08
申请公布号 CN112054050A 申请公布日 2020-12-08
分类号 H01L29/06(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 吴志伟;毛虹懿 申请(专利权)人 无锡华润华晶微电子有限公司
代理机构 北京博思佳知识产权代理有限公司 代理人 无锡华润华晶微电子有限公司
地址 214135江苏省无锡市太湖国际科技园菱湖大道180号-22
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供了一种瞬态电压抑制二极管结构及其制作方法,在半导体叠层内设置若干隔离环,若干隔离环将半导体叠层隔成若干叠层单元;分别在半导体叠层的上表面与下表面对应形成第一电极与第二电极,第一电极与第二电极连续分布于各个叠层单元。换言之,每个叠层单元对应一个瞬态电压抑制子二极管,各个瞬态电压抑制子二极管并联。瞬态电压抑制二极管反向使用时,各个瞬态电压抑制子二极管由于并联,因而各个叠层单元,具体地,各个叠层单元靠近隔离环处都可提供IPP浪涌电流的流动通道,减小各个流动通道内的IPP浪涌电流大小,以提高瞬态电压抑制二极管器件抗IPP浪涌电流能力。