一种Rb掺杂的石榴石型固态电解质的表面处理方法

基本信息

申请号 CN202110348448.2 申请日 -
公开(公告)号 CN113073309A 公开(公告)日 2021-07-06
申请公布号 CN113073309A 申请公布日 2021-07-06
分类号 C23C16/455(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I;C23C16/56(2006.01)I;H01M10/0525(2010.01)I;H01M10/0562(2010.01)I;H01M10/058(2010.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 唐浩林;王仲明;陈智伟;陈志华;詹心泉 申请(专利权)人 光鼎铷业(广州)集团有限公司
代理机构 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 代理人 张秋燕
地址 510040广东省广州市越秀区德政北路401-409号811房
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及一种Rb掺杂的石榴石型固态电解质的表面处理方法,采用具有曝光模式的原子层沉积系统在铷掺杂的石榴石型固态电解质LLZRO陶瓷片上直接镀一层对空气稳定的Li3PO4(LPO)薄膜,修饰在LLZRO陶瓷片的两侧。该表面处理方法利用原子沉积法镀一层LPO膜,有利于降低界面的阻抗恒流充放电过程中,抑制锂枝晶的生长,具有稳定的电化学性能。