分子束外延系统中固定GaSb衬底的方法及样品架专利查询专利号|摘要-满商公司网

分子束外延系统中固定GaSb衬底的方法及样品架

基本信息

申请号	CN202011589006.9	申请日	-
公开（公告）号	CN112593285A	公开（公告）日	2021-04-02
申请公布号	CN112593285A	申请公布日	2021-04-02
分类号	C30B25/12(2006.01)I;C30B29/40(2006.01)I	分类	晶体生长〔3〕;
发明人	陈意桥;王伟强;周浩	申请（专利权）人	苏州焜原光电有限公司
代理机构	北京中济纬天专利代理有限公司	代理人	于宏伟
地址	215211江苏省苏州市吴江区黎里镇汾湖大道558号
法律状态	-

摘要

本发明是针对现有技术中固定GaSb衬底的方法存在的易使衬底软化、衬底的温度均匀性不易保证的不足，提供分子束外延系统中GaSb衬底的安装固定方法及所用的样品架，样品架包括筒体、钽片和压紧固定装置，筒体和压紧固定装置均为在超高真空下不挥发，不放出气体的材质，在筒体内表面设置有支撑结构，钽片设置在支撑结构上，压紧固定装置位于钽片上方将钽片固定在筒体内，采用本发明方法固定GaSb衬底，先将Ga液涂在中间材料上，再通过中间材料将Ga液均匀涂在钽片上，巧妙地解决了Ga液浸润性较差、不易均匀的涂抹在钽片与GaSb衬底之间的难题，将GaSb衬底均匀、稳固的粘在了钽片上，最终解决了GaSb衬底温度均匀性问题，为实现高质量Sb化物材料的生长提供了基础。