一种双面物理气相沉积镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN201821138926.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN208532925U | 公开（公告）日 | 2019-02-22 |
| 申请公布号 | CN208532925U | 申请公布日 | 2019-02-22 |
| 分类号 | C23C14/56;C23C14/35;C23C14/30 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘晓萌 | 申请（专利权）人 | 无锡爱尔华精机有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 214000 江苏省无锡市滨湖区金桂路7号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种双面物理气相沉积镀膜设备，包括真空腔室、样品台系统、真空泵系统和电力系统，真空腔室由磁控溅射腔体和离子辅助蒸发腔体组成，磁控溅射腔体内壁的顶部装有磁控溅射系统，且磁控溅射腔体内部位于磁控溅射系统下方设有加热系统，该双面镀膜设计，对于需要做双面物理气相沉积镀膜的基材，无翻面操作，减少了操作流程，提升了良品率，降低了生产线成本，同时，相对传统的双面磁控溅射镀膜的设计，因为引入了可以实现更优镀膜特性的IED方式，可以提升单面膜性能，对于一些存在主次面之分的双面膜器件，例如有主受光面的光伏电池、主发光面的发光器件、显示器件等等，而言，该设计可以对成本与性能做到较好的平衡。 |
