一种离子辅助镀膜蒸发设备
基本信息
| 申请号 | CN201810791003.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108823540A | 公开（公告）日 | 2018-11-16 |
| 申请公布号 | CN108823540A | 申请公布日 | 2018-11-16 |
| 分类号 | C23C14/30;C23C14/32;C23C14/54;C23C14/52 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘晓萌 | 申请（专利权）人 | 无锡爱尔华精机有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 214000 江苏省无锡市滨湖区金桂路7号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种离子辅助镀膜蒸发设备，包括真空腔室，其特征在于：所述真空腔室上部设有样品台系统，所述真空腔室腔内设有电子束系统，所述电子束系统一侧位于真空腔室内部设有离子源，所述真空腔室一端外接膜厚仪，所述真空腔室另一端外接真空泵系统，所述真空腔室由电力系统提供电力支持，本发明的有益效果：本发明成本低廉、成膜质量高、对衬底损伤小、可利用廉价膜源材料、适用于需低温沉积的衬底材料、是灵活度高的物理气象沉积设备。 |
