一种应用于半导体废气处理设备的结构
基本信息
| 申请号 | CN201920702326.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN210473530U | 公开（公告）日 | 2020-05-08 |
| 申请公布号 | CN210473530U | 申请公布日 | 2020-05-08 |
| 分类号 | B01D53/32;B01D53/14;F23G7/06 | 分类 | 一般的物理或化学的方法或装置; |
| 发明人 | 章文军;杨春水;宁腾飞;陈彦岗;杨春涛;王继飞;张坤;闫萧;蔡传涛;席涛涛;王磊 | 申请（专利权）人 | 安徽京仪自动化装备技术有限公司 |
| 代理机构 | 芜湖思诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 郑直 |
| 地址 | 241000 安徽省芜湖市江北产业集中区管委会B楼403-J室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种应用于半导体废气处理设备的结构，涉及半导体行业废气处理技术领域，包括机柜，所述机柜内安装有废气处理系统，所述废气处理系统包括气动三通阀，通过设置等离子体火炬、反应腔、循环水箱和水洗塔，实现废气的处理，通过设置溢流部一和溢流部二，从而降低经反应腔反应后的气体温度，对有污垢的水洗塔塔壁进行水洗，通过在上层水洗塔上设置新风组合件，使得对上层水洗塔进行通风，减少出口水气过多，本实用新型为半导体废气处理提供了一种选择，增加解决半导体废气处理的方案，处理废气安全可靠，范围广效率高。 |
