一种肖特基接触二极管中的钛金属层

基本信息

申请号 CN201820476741.0 申请日 -
公开(公告)号 CN208157418U 公开(公告)日 2018-11-27
申请公布号 CN208157418U 申请公布日 2018-11-27
分类号 H01L29/872;H01L29/06 分类 基本电气元件;
发明人 潘国刚;周卫宏;张晓新;余庆;赵铝虎;鄢细根;周桂丽;秦永星;傅劲松;何火军 申请(专利权)人 华越微电子有限公司
代理机构 上海精晟知识产权代理有限公司 代理人 华越微电子有限公司
地址 312000 浙江省绍兴市环城西路天光桥3号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种肖特基接触二极管中的钛金属层,所述的肖特基接触二极管包括硅衬底层、所述硅衬底层两侧有二氧化硅层,所述的两侧二氧化硅层之间的硅衬底层上溅射有钛金属层;所述的两侧二氧化硅层、钛金属层之上溅射有铝层。本实用新型通过在溅射铝前,增加一层很薄的钛金属层,通过后续钛和硅发生反应形成钛硅化物层,从而改变肖特基势垒电压。通过调整不同的钛层厚度,产生不同的势垒电压,从而实现电压的可调性。