一种用于PVD离子源靶材的水冷结构
基本信息
| 申请号 | CN202022853773.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214361646U | 公开（公告）日 | 2021-10-08 |
| 申请公布号 | CN214361646U | 申请公布日 | 2021-10-08 |
| 分类号 | C23C14/32（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 侯瑞;张鸿;周博文;张鹏蛟;李文亮;李俊周;孙安 | 申请（专利权）人 | 铍威镝新材料（南京）有限公司 |
| 代理机构 | 常州佰业腾飞专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 顾翰林 |
| 地址 | 210000 江苏省南京市经济技术开发区红枫科技园B4栋 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于PVD离子源靶材的水冷结构，属于PVD技术领域，包括依次设置的铜靶座、涡旋盘、靶座绝缘垫和里盖，靶座绝缘垫为环形，里盖设有插孔，一根通水管的其中一端穿过里盖的插孔并与涡旋盘固定连接；铜靶座与涡旋盘之间设有第一水流通道，第一水流通道由涡旋通道和与涡旋通道连通的反流通道构成，涡旋盘与里盖之间设有第二水流通道，通水管内设进水孔和出水孔，涡旋盘设有第一连通孔和第二连通孔，进水孔通过第一连通孔与涡旋通道连通，反流通道通过第二连通孔与第二水流通道连通，通水管设有连通第二水流通道与出水孔的第三连通孔。本实用新型是一种冷却效果好、易加工、易安装且易拆卸的PVD离子源靶材的水冷结构。 |
