单分散介孔二氧化硅纳米片材料的制备方法
基本信息
申请号 | CN201811534737.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN109368648A | 公开(公告)日 | 2019-02-22 |
申请公布号 | CN109368648A | 申请公布日 | 2019-02-22 |
分类号 | C01B33/18;B82Y30/00;B82Y40/00 | 分类 | 无机化学; |
发明人 | 赵东元;朱洪伟;刘玉普 | 申请(专利权)人 | 深圳元颉新材料科技有限公司 |
代理机构 | - | 代理人 | - |
地址 | 518000 广东省深圳市南山区粤海街道滨海社区科园路1008号软件产业基地1栋C1201 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提出了一种单分散介孔二氧化硅纳米片材料的制备方法,包括:(1)将表面活性剂和催化剂溶解到水中,加入有机溶剂;加入硅源,形成新的混相体系;(2)所述新的混相体系在温度10‑60℃中反应;得到单分散介孔二氧化硅纳米片;(3)将上述单分散介孔二氧化硅纳米片,去除其中的表面活性剂。 |
