一种带有真空度监控结构的活塞环真空镀膜机
基本信息
申请号 | CN202121850444.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN215560613U | 公开(公告)日 | 2022-01-18 |
申请公布号 | CN215560613U | 申请公布日 | 2022-01-18 |
分类号 | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 刘家康;曹孔林;吴安华;周鹏 | 申请(专利权)人 | 仪征纳环科技有限公司 |
代理机构 | 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 宋鹤 |
地址 | 211400江苏省扬州市仪征汽车工业园区联众路8号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种带有真空度监控结构的活塞环真空镀膜机,包括机体、蒸汽熔炉和真空泵,所述机体、蒸汽熔炉和真空泵的下表面固定安装有底座,所述机体的右侧壁固定连接有支架,所述支架的内壁固定连接有固定杆,所述固定杆的外表面套设有升降板,所述升降板的下表面固定连接有滚轮套,所述机体的下表面固定安装有驱动电机,所述驱动电机的输出端固定连接有转轴,所述转轴的顶端固定连接有空心置物板,所述机体的内部开设有空腔,所述空腔的顶壁转动连接有竖杆,所述空腔的内壁固定连接有隔板和导热板,所述空腔的下表面活动穿插有活塞杆,通过一系列结构的设置使得本装置能够便于进行均匀的镀膜,且能够使装置更加稳定。 |
