一种新型可调基片输送辊装置

基本信息

申请号 CN201110180430.2 申请日 -
公开(公告)号 CN102286725B 公开(公告)日 2013-06-26
申请公布号 CN102286725B 申请公布日 2013-06-26
分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 邵新宇;张国军;张华书;黄禹;陈宇;刘高水;李海洲;王炳勇 申请(专利权)人 东莞市华科制造工程研究院有限公司
代理机构 广州华进联合专利商标代理有限公司 代理人 东莞市华科制造工程研究院有限公司;广东志成冠军集团有限公司
地址 523808 广东省东莞市松山湖科技产业园区科技九路1号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种新型可调基片输送辊装置,空间位置可调,能保证其刚性和可靠性,本装置设有阶梯轴,阶梯轴外围设有轴承座,轴承座为偏心结构,阶梯轴通过轴承座固定于真空腔墙体上,轴承座的安装孔的中心线与真空腔墙体的中心线偏离0.5~1mm,阶梯轴真空室内的一端的光轴段上套接有传送辊,传送辊通过传送键卡接阶梯轴,传送辊的两侧均设有一组螺母,阶梯轴的光轴段端部具有细牙螺纹,阶梯轴真空室外的一端套接有同步带轮,同步带轮通过传送键卡接阶梯轴;本发明不仅可以提高基片的镀膜质量,还可以降低焊接、加工、装配等工序要求,使设备制造成本降低,能在轴向和径向上可调,保证调整精度。