一种新型可调基片架
基本信息
| 申请号 | CN201120227134.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN202175710U | 公开（公告）日 | 2012-03-28 |
| 申请公布号 | CN202175710U | 申请公布日 | 2012-03-28 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 邵新宇;张国军;张华书;黄禹;陈宇;刘高水;李海洲;王炳勇 | 申请（专利权）人 | 东莞市华科制造工程研究院有限公司 |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人 | 谭一兵 |
| 地址 | 523808 广东省东莞市松山湖科技产业园区科技九路1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种新型可调基片架，结构简单，操作方便，包括框架，框架包括顶横梁、侧立柱和底座，框架为前后并排双层的矩形结构，框架上设有基片固定装置，基片固定装置设有上梁和下梁，上梁和下梁的两端均固定连接滑动件，上梁设有一对上卡爪，上卡爪与上梁活动连接，下梁设有一对下卡爪，下卡爪与下梁活动连接，侧立柱上设有滑槽条，滑槽条与滑动件相吻合匹配；顶横梁开设有导槽，导槽中设有轴承；底座的下方设有绝缘板，绝缘板的下方设有导轨座和与导轨座相匹配的圆导轨；本实用新型操作方便，安装高度和宽度均可在可调范围内调动，在不增加真空镀膜腔空间大小的情况下，使基片架通用可调，满足不同材料、不同规格大小的基片安装。 |
