聚焦电位器基片的清洗方法
基本信息
| 申请号 | CN200410041069.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN100353466C | 公开（公告）日 | 2007-12-05 |
| 申请公布号 | CN100353466C | 申请公布日 | 2007-12-05 |
| 分类号 | H01C10/00(2006.01);H01C17/00(2006.01);B08B3/04(2006.01);B08B3/12(2006.01);B08B3/02(2006.01);B08B3/00(2006.01) | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 盛建中 | 申请（专利权）人 | 苏州双林电脑器件有限公司 |
| 代理机构 | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 苏州双林电脑器件有限公司;苏州双林塑胶电子有限公司 |
| 地址 | 215128江苏省苏州市吴中区石湖西路166－168号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种聚焦电位器基片的清洗方法，它用高纯水取代目前使用的三氯乙烯和三氯乙烷作为清洗液，用超声波进行清洗，使生产过程和清洗产品无污染，不仅降低了生产成本，而且提高了产品的可靠性，满足了客户对聚焦电位器的环保要求。 |
