一种磁控溅射过程中稳定传输基片载具的装置
基本信息
| 申请号 | CN201920585963.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209778989U | 公开（公告）日 | 2019-12-13 |
| 申请公布号 | CN209778989U | 申请公布日 | 2019-12-13 |
| 分类号 | C23C14/56（2006.01）; C23C14/50（2006.01）; C23C14/35（2006.01）; H01L31/18（2006.01） | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李贵成; 钟莉霞; 梅小艳; 廖精巧; 李红有; 杨子龙 | 申请（专利权）人 | 泸州金能移动能源科技有限公司 |
| 代理机构 | 成都华风专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 泸州金能移动能源科技有限公司 |
| 地址 | 646000 四川省泸州市泸州高新区酒谷大道5段19号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种磁控溅射过程中稳定传输基片载具的装置，包括：腔体、设在腔体底部的传动机构、滚动设置在传动机构上的载具、设在载具一侧的永磁体、设在载具一侧且与永磁体不同侧的靶材；所述载具包括：载物板、设在载物板上的侧滑轨、固定在腔体顶部且与所述侧滑轨配合的若干个第一传动轮；通过采用该装置，避免了载物板因移动中左右晃动，实现所述载具的稳定传输，从而避免基片上沉积的膜厚度明显变化不均匀，不影响基片的正常生产效率的同时，提高了基片的生产质量，增强了生产效益。 |
