一种超结MOSFET器件的仿真方法及仿真模型结构

基本信息

申请号 CN202210485117.8 申请日 -
公开(公告)号 CN114580332A 公开(公告)日 2022-06-03
申请公布号 CN114580332A 申请公布日 2022-06-03
分类号 G06F30/367 分类 计算;推算;计数;
发明人 李伟聪;姜春亮;雷秀芳;林泳浩 申请(专利权)人 深圳市威兆半导体股份有限公司
代理机构 北京惟盛达知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 黄凯
地址 518000 广东省深圳市南山区桃源街道福光社区留仙大道3370号南山智园崇文园区3号楼1301
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及一种超结MOSFET器件的仿真方法及仿真模型结构,仿真方法包括:构建电路模型,电路模型包括MOSFET模型、JFET模型、体二极管模型和第一电阻模型Ⅰ、第一电阻模型Ⅱ和第二电阻模型;MOSFET模型漏极与JFET模型源极连接;MOSFET模型源极分别与JFET模型栅极、体二级管模型正极连接;第一电阻模型Ⅰ的第一端与JFET模型漏极连接,第一电阻模型Ⅰ的第二端与第一电阻模型Ⅱ的第一端连接;第一电阻模型Ⅱ的第二端与体二极管模型负极连接。本发明提供的仿真方法能有效模拟超结MOSFET器件在各工作区域的特性,仿真准确性高。