一种超结MOSFET器件的仿真方法及仿真模型结构
基本信息
申请号 | CN202210485117.8 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114580332A | 公开(公告)日 | 2022-06-03 |
申请公布号 | CN114580332A | 申请公布日 | 2022-06-03 |
分类号 | G06F30/367 | 分类 | 计算;推算;计数; |
发明人 | 李伟聪;姜春亮;雷秀芳;林泳浩 | 申请(专利权)人 | 深圳市威兆半导体股份有限公司 |
代理机构 | 北京惟盛达知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 黄凯 |
地址 | 518000 广东省深圳市南山区桃源街道福光社区留仙大道3370号南山智园崇文园区3号楼1301 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明涉及一种超结MOSFET器件的仿真方法及仿真模型结构,仿真方法包括:构建电路模型,电路模型包括MOSFET模型、JFET模型、体二极管模型和第一电阻模型Ⅰ、第一电阻模型Ⅱ和第二电阻模型;MOSFET模型漏极与JFET模型源极连接;MOSFET模型源极分别与JFET模型栅极、体二级管模型正极连接;第一电阻模型Ⅰ的第一端与JFET模型漏极连接,第一电阻模型Ⅰ的第二端与第一电阻模型Ⅱ的第一端连接;第一电阻模型Ⅱ的第二端与体二极管模型负极连接。本发明提供的仿真方法能有效模拟超结MOSFET器件在各工作区域的特性,仿真准确性高。 |
