一种半导体器件、终端结构及其制造方法

基本信息

申请号 CN202210227409.1 申请日 -
公开(公告)号 CN114335154B 公开(公告)日 2022-07-01
申请公布号 CN114335154B 申请公布日 2022-07-01
分类号 H01L29/06(2006.01)I;H01L29/739(2006.01)I;H01L21/331(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 姜春亮;李伟聪;雷秀芳 申请(专利权)人 深圳市威兆半导体股份有限公司
代理机构 深圳鼎恒诚知识产权代理有限公司 代理人 -
地址 518000广东省深圳市南山区桃源街道福光社区留仙大道3370号南山智园崇文园区3号楼1301
法律状态 -

摘要

摘要 一种半导体器件、终端结构及其制造方法,终端结构,包括基底、主结和至少一个场限环;基底包括衬底以及漂移区;场限环的第一掺杂区形成在漂移区上;主结形成在漂移区上,主结包括第二掺杂区;主结上形成有增强环,增强环包括多晶硅结构以及位于多晶硅结构下方的第三掺杂区。由于增强环的存在,耗尽区缩小,使得界面空穴陷阱分布更集中于主结,增强环表面对界面陷阱电荷的敏感性降低,进而退化应力产生的热载流子对于表面电场的影响得以降低,退化效应得到缓解,抑制新的界面空穴电荷产生,加速器件在反向电流应力下达到击穿电压的平衡态,提高了抑制击穿电压退化的能力,提高器件可靠性。