一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置
基本信息
| 申请号 | CN202021870607.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213023941U | 公开（公告）日 | 2021-04-20 |
| 申请公布号 | CN213023941U | 申请公布日 | 2021-04-20 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 王群 | 申请（专利权）人 | 江苏九迪激光装备科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 210000江苏省徐州市邳州市岔河镇岔河电子产业园 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，包括激光调节头，所述激光调节头的底部固定连有聚焦调节圈，所述聚焦调节圈的底部固定连接有聚焦头，所述激光调节头的表面套接有可以上下位移的定位罩圈。该无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，采用压缩空气机为进气管提供压缩空气，弹性气囊抵住定位活动齿，插入聚焦调节圈上调节圆环表面的凹槽内部，由于压缩空气突然的连通，多个定位活动齿基本等同于同时插入凹槽，因此在插入的过程中调节圆环不产生位移，该光刻机头在位移时，调好的聚焦镜片组不会松动，激光束始终保持一个焦点，从而避免降低光刻精度，该定位罩圈采用上下滑动的方式，便于下次调节聚焦大小，同时也便于固定。 |
