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一种改善垂直腔面发射激光器氧化均匀性的湿法氧化工艺

基本信息

申请号 CN201911281608.5 申请日 -
公开（公告）号 CN110994359A 公开（公告）日 2020-04-10
申请公布号 CN110994359A 申请公布日 2020-04-10
分类号 H01S5/183 分类 基本电气元件;
发明人 代露;肖黎明 申请（专利权）人 武汉光安伦光电技术有限公司
代理机构 北京汇泽知识产权代理有限公司 代理人 武汉光安伦光电技术有限公司
地址 430074 湖北省武汉市东湖开发区光谷金融港B26-802
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种改善垂直腔面发射激光器氧化均匀性的湿法氧化工艺，本氧化工艺包括如下步骤：氧化前通入H2，对片子表面进行预处理，使片子表面活化，这样有利于后续氧化的均匀性，另外，氧化步骤完成后，继续保温一段时间，持续通入N2，直到温度降至常温，氧化结束，这样持续通入N2的目的是去除反应坏境中的H2，减少H的钝化作用并对片子进行退火，同时在氧化过程中，水蒸汽流量用液体流量计精准控制。此外，此种氧化工艺可单片氧化，也可实现多片氧化同时进行。本发明提供的氧化工艺可以很好的实现均匀氧化。