一种往复旋转升降的化学气相沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN202111330342.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113774360B | 公开（公告）日 | 2022-02-11 |
| 申请公布号 | CN113774360B | 申请公布日 | 2022-02-11 |
| 分类号 | C23C16/458（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 金小亮;李中云;崔世甲;潘学勤;宋维聪 | 申请（专利权）人 | 陛通半导体设备（苏州）有限公司 |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 刘星 |
| 地址 | 215413江苏省苏州市太仓市大连东路36号3#1-2层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种往复旋转升降的化学气相沉积设备，包括腔体、基座、固定支架、升降机构及旋转机构。本发明利用磁流体密封原理实现设备密封，并实现旋转升降功能为一体，可同时满足往复旋转、升降移动、晶圆加热等的协同工作的同时互不影响，且往复式旋转可避免电气线在旋转过程中发生物理缠绕损毁的问题。另外，旋转机构内可设置吹气装置，避免腔体内形成的微颗粒对旋转机构（磁液）的影响，可保证旋转机构高效稳定的运行。相对于现有设备，本发明的往复旋转升降的化学气相沉积设备的整体结构精简了较多传动组件，由此减少了由于较多冗余组件造成的不稳定性以及产生的机械磨损，使升降和旋转控制的准确度更高，稳定性更强，制造成本和功耗更低。 |
