一种真空镀膜中真空泵系统的工作方法及真空泵系统
基本信息
| 申请号 | CN202111184329.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113621936A | 公开（公告）日 | 2021-11-09 |
| 申请公布号 | CN113621936A | 申请公布日 | 2021-11-09 |
| 分类号 | C23C14/56（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘祥;宋维聪;封拥军;郑倪明;罗傢蛴;崔世甲 | 申请（专利权）人 | 陛通半导体设备（苏州）有限公司 |
| 代理机构 | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 李艾 |
| 地址 | 215413江苏省苏州市太仓市大连东路36号3#1-2层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种真空镀膜中真空泵系统的工作方法及真空泵系统，所述真空泵系统包括工艺腔、泵体、保护气源和压缩空气源，包括如下步骤：S10：获取工艺腔的工作状态，当工艺腔处于工作状态，执行S20，当工艺腔处于非工作状态，则执行S30；S20：连通保护气源和泵体，使保护气体进入泵体；S30：连通压缩空气源和泵体，使压缩空气进入泵体。本发明通过判断工艺腔的工作状态，实现适时地将适合的气体通入真空泵，节约了成本。 |
