一种在硅基材表面形成二氧化硅薄膜的制备设备
基本信息
| 申请号 | CN202111041644.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113737158A | 公开（公告）日 | 2021-12-03 |
| 申请公布号 | CN113737158A | 申请公布日 | 2021-12-03 |
| 分类号 | C23C16/52（2006.01）I;C23C16/40（2006.01）I;C23C16/46（2006.01）I;H01L21/02（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 周祥 | 申请（专利权）人 | 徐州金琳光电材料产业研究院有限公司 |
| 代理机构 | 合肥铭辉知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张立荣 |
| 地址 | 221400江苏省徐州市新沂市唐店街道众创产业园A05栋 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于二氧化硅薄膜制备技术领域，尤其是一种在硅基材表面形成二氧化硅薄膜的制备设备，针对存在的设备内温度、基板角度调节的问题，现提出以下方案，包括支架，所述支架用于支撑设备的一端；温度圈，所述温度圈用于支撑设备另一端；所述温度圈的一端设有前驱体输入组件，且温度圈的另一端设有真空度调节组件。本发明中利用激光发生器为狭缝式，通过反射呈激光带，由基板一侧移动覆盖，同时激光的发射角根据转动轴带动发射镜变化，同时的前驱体输入端，喷涂出雾化状的二氧化硅，在带状激光照射下依次基板表面覆膜，覆膜更加稳定紧密，而且整体的覆膜更均匀。 |
