一种光电信息泄漏防护薄膜、装置及其制备方法和用途
基本信息
| 申请号 | CN202111586781.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114126394A | 公开（公告）日 | 2022-03-01 |
| 申请公布号 | CN114126394A | 申请公布日 | 2022-03-01 |
| 分类号 | H05K9/00（2006.01）I | 分类 | 其他类目不包含的电技术; |
| 发明人 | 曾子上;范彭宇 | 申请（专利权）人 | 泰州宏智光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京市隆安律师事务所 | 代理人 | 禹静 |
| 地址 | 100076北京市大兴区瀛海镇忠兴庄黄亦路7号伊斯普 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种光电信息泄漏防护薄膜，所述光电信息泄漏防护薄膜包括至少一个防护单元（2），其中，所述防护单元（2）包括叠层设置的功能层（21）和干涉滤光层（22），所述功能层（21）为同时具有电磁屏蔽功能和红外吸收功能的材料，所述干涉滤光层（22）为透明的绝缘材料。本发明还公开了一种光电信息泄漏防护装置、光电信息泄漏防护薄膜和装置的制备方法以其在防止光电信息泄露中的用途。本发明中，具有导电性的功能层屏蔽电磁辐射，同时吸收部分红外信号，干涉滤光层形成干涉抵消，增强对红外信号的屏蔽，还同时促进了对电磁辐射的屏蔽。 |
