一种磁控溅射制备非晶金属钒薄膜的方法
基本信息
| 申请号 | CN201910891147.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110607510A | 公开（公告）日 | 2019-12-24 |
| 申请公布号 | CN110607510A | 申请公布日 | 2019-12-24 |
| 分类号 | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/02 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 章嵩;涂溶;张联盟 | 申请（专利权）人 | 气相科技（武汉）有限公司 |
| 代理机构 | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人 | 崔友明;官群 |
| 地址 | 430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区理工园四路1号理工大科技园研发基地B2栋2层B2室217号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种磁控溅射制备非晶金属钒薄膜的方法，具体步骤如下：1)衬底的表面清洗；2)采用磁控溅射仪在衬底上沉积非晶金属钒薄膜：将衬底置于真空室内基片台上，抽真空至2.0×10‑4Pa以下，以氩气作为工作气体，衬底温度为25±10℃，溅射的工作压强为1.0～2.5Pa，溅射功率为50～100W，靶材到衬底的距离为5～10cm，基片台转速为10～50r/min，在衬底表面沉积得到非晶金属钒薄膜。本发明制备的非晶态金属钒薄膜有着优异的耐腐蚀性，其结构均匀致密，不易产生电化学腐蚀，其表面形成的一层致密的钝化膜能有效防止金属内部被进一步氧化，可应用于化工、海洋等环境下抗腐蚀材料领域。 |
