一种调控钒薄膜择优取向性的方法
基本信息
| 申请号 | CN202010884112.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112030126A | 公开（公告）日 | 2020-12-04 |
| 申请公布号 | CN112030126A | 申请公布日 | 2020-12-04 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 章嵩;郑龙;涂溶 | 申请（专利权）人 | 气相科技（武汉）有限公司 |
| 代理机构 | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人 | 崔友明;官群 |
| 地址 | 430223湖北省武汉市东湖新技术开发区理工园四路1号理工大科技园研发基地B2栋2层B2室217号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种调控钒薄膜择优取向性的方法，采用非平衡磁控溅射的方法，通过调控沉积气压和溅射功率的条件，分别得到<110>、<211>、<111>取向的金属钒薄膜。本发明操作简单，采用非平衡磁控溅射方法，仅通过调控沉积气压和溅射功率即可得到具有不同择优取向性的金属钒薄膜，方法重复性好，对于制备及开发应用特定择优取向的金属钒薄膜具有重要意义。 |
