一种化学气相沉积及退火连续制程装置、方法和应用
基本信息
| 申请号 | CN202110783355.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113564558B | 公开（公告）日 | 2022-03-04 |
| 申请公布号 | CN113564558B | 申请公布日 | 2022-03-04 |
| 分类号 | C23C16/14（2006.01）I;C23C16/56（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I;C23C16/44（2006.01）I;C23C16/455（2006.01）I;C23C16/02（2006.01）I;H01J37/32（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 林文富;陈平阳;谈益强;林冠廷;邱琦朝 | 申请（专利权）人 | 浙江陶特容器科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 浙江千克知识产权代理有限公司 | 代理人 | 沈涛 |
| 地址 | 314400浙江省嘉兴市海宁市周王庙镇之江路30号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及化学气相沉积领域，尤其涉及一种化学气相沉积及退火连续制程装置，其包括：用于进行气相沉积以及退火步骤的反应室、用于向反应室内部输送反应气体的气体阀件模块、用于向外排放反应室内部的制程尾气并调节反应室内部的真空度的压力控制模块以及对压力控制模块输送的制程尾气进行纯化的尾气循环模块。本发明通过在同一设备中同时整合化学气相沉积装置以及退火装置成一体，从而能够大大减少企业购置生产设备的成本，并能够有效缩短钨金属物料的生产时间，增加了生产效率，提升机台利用率，还能够提升生产原物料的利用率，有效节约生产成本，从而能够在回收报废离子源钨制腔体中起到良好的应用。 |
