一种具有清洗调节结构的抛光设备

基本信息

申请号 CN202021662742.8 申请日 -
公开(公告)号 CN213225734U 公开(公告)日 2021-05-18
申请公布号 CN213225734U 申请公布日 2021-05-18
分类号 B24B55/06 分类 磨削;抛光;
发明人 梁玉珍 申请(专利权)人 德兴市五阳铸造科技有限公司
代理机构 南昌金轩知识产权代理有限公司 代理人 石红丽
地址 334200 江西省上饶市德兴市泗洲镇张家畈工业园区
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种具有清洗调节结构的抛光设备,包括抛光机,所述抛光机顶部的右侧固定连接有连接箱,所述连接箱内壁顶部的左侧固定连接有连接杆,所述连接杆底部的前侧通过轴承座活动连接有齿轮,所述齿轮的前侧固定连接有空心喷管,所述空心喷管的前侧贯穿连接箱的前侧,所述连接箱内壁顶部的右侧滑动连接有齿板,所述齿板的左侧与齿轮的右侧啮合连接,所述连接箱右侧的顶部且对应齿板的位置通过轴承座活动连接有传动机构。本实用新型解决了现有的抛光设备不具有清洗调节功能,导致清洗角度固定不能根据实际需要进行调节的问题,增加了抛光设备清洗的效率,也减少了抛光设备清洗的时间,也提高了抛光设备的实用性。