上电极结构及等离子体增强化学气相沉积装置
基本信息
| 申请号 | CN201510225072.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104789947B | 公开（公告）日 | 2018-07-06 |
| 申请公布号 | CN104789947B | 申请公布日 | 2018-07-06 |
| 分类号 | C23C16/513 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 南建辉;王崧;何嘉 | 申请（专利权）人 | 北京精诚铂阳光电设备有限公司 |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 赵囡囡;吴贵明 |
| 地址 | 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区锦绣街7号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种上电极结构及等离子体增强化学气相沉积装置。该上电极结构包括中心电极板和围绕中心电极板并与中心电极板连接的外围电极板，外围电极板的底面低于中心电极板的底面，且上电极结构中具有贯穿上电极结构的通气孔道。由于外围电极板的底面低于中心电极板的底面，且上电极结构中具有贯穿上电极结构的通气孔道，从而能够使上电极结构的底面形成有拱形结构，进而提高了通过上电极结构的工艺气体的气流均匀性，使利用工艺气体沉积形成的薄膜具有更好的均匀性；并且，由于上电极结构包括有连接设置的中心电极板和外围电极板，从而能够通过调节中心电极板和外围电极板的位置关系进一步地对工艺气体的气流均匀性进行优化。 |
