电传输馈入结构及具有其的PECVD设备
基本信息
| 申请号 | CN201510451915.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN105039936B | 公开（公告）日 | 2017-10-27 |
| 申请公布号 | CN105039936B | 申请公布日 | 2017-10-27 |
| 分类号 | C23C16/54(2006.01)I;C23C16/50(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 杨娜;曲铭浩;庄春泉;张津燕;徐希翔;胡安红;张迎春 | 申请（专利权）人 | 北京精诚铂阳光电设备有限公司 |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 赵囡囡;吴贵明 |
| 地址 | 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区锦绣街7号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种电传输馈入结构及具有其的PECVD设备，电传输馈入结构包括：两个屏蔽层；两个绝缘介质层，设置在两个屏蔽层之间；导电层，设置在两个绝缘介质层之间；导电层包括输入端和输出端，输出端包括多个连接点。通过本发明提供的技术方案能够解决现有技术中薄膜不均匀的问题。 |
