水热法及溶剂热合法制备纳米SiO2的工艺
基本信息
| 申请号 | CN200910103083.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN101475176A | 公开（公告）日 | 2009-07-08 |
| 申请公布号 | CN101475176A | 申请公布日 | 2009-07-08 |
| 分类号 | C01B33/113(2006.01)I | 分类 | 无机化学; |
| 发明人 | 张纵 | 申请（专利权）人 | 重庆广旺投资有限公司 |
| 代理机构 | 重庆市前沿专利事务所 | 代理人 | 重庆广旺投资有限公司 |
| 地址 | 400080重庆市大渡口区八桥镇双山村三社 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种水热法及溶剂热合法制备纳米SiO2的工艺，其步骤是先将压缩过滤后的空气和H2与气化SiCl4水解；再将得到的SiO2聚集；然后分离HCl收集SiO2；最后在湿热空气内将吸附在SiO2表面的HCl除去得到最后的纳米SiO2产品。本发明工艺在制备纳米SiO2的过程中工序比较简单，能耗比较低，稳定高效，可使脱酸时间缩短，解决产量大时脱酸困难的问题，并且取消了通氮脱酸，使纳米SiO2材料生产出来的纯度高，颜色纯，质量得到提高，品质得到保证。 |
